3-amino-5-merkapto-1,2 tənəffüs edildikdə, 4-triazol, xəstəni təmiz havaya aparın; dəri ilə təmas halında çirklənmiş paltarları çıxarın və dərini sabunlu su və su ilə yaxşıca yuyun. Əgər özünüzü narahat hiss edirsinizsə, həkimə müraciət edin; gözlə təmiz təmasınız varsa, göz qapaqlarını ayırın, axan su və ya normal salin ilə yuyun və dərhal həkimə müraciət edin; qəbul edildikdə dərhal qarqara edin, qusma əmələ gətirməyin və dərhal həkimə müraciət edin.

Fotorezist təmizləyici həll hazırlamaq üçün istifadə olunur

Ümumi LED və yarımkeçirici istehsal prosesində bəzi materialların səthində fotorezist maskası əmələ gəlir və naxış məruz qaldıqdan sonra köçürülür. Tələb olunan nümunəni əldə etdikdən sonra qalıq fotorezistin növbəti prosesdən əvvəl soyulması lazımdır. Bu müddətdə heç bir substratı korlamadan lazımsız fotorezisti tamamilə silmək tələb olunur. Hal hazırda fotorezist təmizləyici məhlul əsasən qütb üzvi həlledici, güclü qələvi və / və ya sudan ibarətdir. .

Sulu olmayan aşağı aşındırıcı bir yuyucu olan yeni bir fotorezist təmizləyici həll növü hazırlanmışdır. Tərkibində: alkoqol amin, 3-amino-5-merkapto-1,2,4-triazol və kosolvent. Bu tip fotorezist təmizləyici həll LED və yarımkeçiricidəki fotorezisti çıxarmaq üçün istifadə edilə bilər. Eyni zamanda, metal alüminium kimi substrata heç bir hücumu yoxdur. Üstəlik, sistem güclü su müqavimətinə malikdir və işləmə pəncərəsini genişləndirir. LED və yarımkeçirici çip təmizlənməsi sahələrində yaxşı bir tətbiq perspektivinə malikdir.